一、扫描电镜和透射电镜设备的不同点：

 

　　高分辨率台式扫描电镜使用—组特定的线圈以光栅样式扫描样品并收集散射的电子。

 

　　透射电镜是使用透射电子，收集透过样品的电子。因此，透射电镜提供了样品的内部结构，如晶体结构，形态和应力状态信息，而扫描电镜则提供了样品表面及其组成的信息。

 

　　而且，这两种设备的差别之一是它们可以达到的最佳空间分辨率;扫描电镜的分辨率被限制在～0.5nm，而随着最近在球差校正透射电镜中的发展，已经报道了其空间分辨率甚至小于50pm。

 

　　二、高分辨率台式扫描电镜和透射电镜操作上的差异

 

　　这两种电子显微镜系统在操作方式上也有所不同。扫描电镜通常使用15kV以上的加速电压，而透射电镜可以将其设置在60-300kV的范围内。

 

　　与扫描电镜相比，透射电镜提供的放大倍数也相当高:透射电镜可以将样品放大5000万倍以上，而对于扫描电镜来说，限制在1-2百万倍之间。

 

　　然而，扫描电镜可以实现的最大视场(FOV)远大于透射电镜，用户可以只对样品的一小部分进行成像。同样，扫描电镜系统的景深也远高于透射电镜系统。

 

　　三、扫描电镜和透射电镜对样品的要求

 

　　1、扫描电镜

 

　　扫描电镜制样对样品的厚度没有特殊要求，可以采用切、磨、抛光或解理等方法将特定剖面呈现出来，从而转化为可以观察的表面。这样的表面如果直接观察，看到的只有表面加工损伤，一般要利用不同的化学溶液进行择优腐蚀，才能产生有利于观察的衬度。不过腐蚀会使样品失去原结构的部分真实情况，同时引入部分人为的干扰，对样品中厚度极小的薄层来说，造成的误差更大。

 

　　2、透射电镜

 

　　由于透射电镜得到的显微图像的质量强烈依赖于样品的厚度，因此样品观测部位要非常的薄，例如存储器器件的透射电镜样品一般只能有10～100nm的厚度，这给透射电镜制样带来很大的难度。初学者在制样过程中用手工或者机械控制磨制的成品率不高，一旦过度削磨则使该样品报废。透射电镜制样的另一个问题是观测点的定位，一般的制样只能获得10mm量级的薄的观测范围，这在需要精确定位分析的时候，目标往往落在观测范围之外。目前比较理想的解决方法是通过聚焦离子束刻蚀(FIB)来进行精细加工。